スパッタリング、蒸着、化学気相成長、レーザーアブレーション等によりナノ粒子、ナノワイヤ、ナノチューブ等を作製しています。最高温度、雰囲気制御、形状のことなる各種電気炉を使用して試料の熱処理を行っています。
Thin film deposition
Five Targets Ultra High Vacuume rf Sputtering System
５種類の材料を同時又は交互にスパッタリング堆積可能
2inch target, 3inch substrate
Single Target rf Sputtering System (SPF-210HS, Anelva)
4inch target, 3inch substrate
Single Target rf Sputtering System (SPF-210?, Anelva)
4inch target, 3inch substrate
Laser Ablation and Three Targets Sputtering System
レーザーアブレーション用のレーザー照射窓とターゲットの公転自転機構。
3元スパッタリング
Vacuum Deposition (SVC-700T, Sanyu Electron)
ドライエッチング装置 (L-201D, Avelva)
Furnace
高温精密電気炉 (HF-1700N)
最高使用温度：1700℃（常用1600℃）（二珪化モリブデンヒーター）
Tubular Electrical Resistance Furnace (ARFH-30KC, ASAHI-RIKA)
常用最高温度1300℃（シリコニットヒーター）
雰囲気制御（真空，ガス）（マスフローコントローラー）
レーザーアブレーション用窓
レーザーアブレーション用ターゲット回転機構
Tubular Electrical Resistance Furnace (SYK-460-MA, SANYO RIKAGAKUKI)
常用最高温度1300℃（シリコニットヒーター）
簡易雰囲気制御
Tubular Electrical Resistance Furnace
常用最高温度1100℃（カンタル線）
簡易雰囲気制御
Box Furnace (FT-1700-SiC, FULL-TECH)
最高温度1650℃ （SiCヒーター）2021年導入
簡易雰囲気制御
.jpg)
Box Furnace (NHK-170, NITTO KAGAKU)
最高温度1100℃ （カンタル線）
赤外線ゴールドイメージ炉
最高温度1600℃
高速昇温，降温（但し，均一性は？）
雰囲気制御
高温ホットプレート
最高温度500℃？
化学的、電気化学的な材料合成、ウエットエッチング、洗浄、スピンコーティング等の設備です。
Fume Hood ( )
フッ酸対応
イオン交換水、純粋製造機 (Direct-Q UV3, MERCK)
Vacuum Grove Box (EZ-650L, UNICO)
Spin Coater (K-359S-1, KYOWARIKEN)
Centrifuge 高速遠心機 (Sorvall LYNX 4000, Thermo Scientific)
スイングローター対応
24,000rpm （最大遠心力68,905 g）、最大容量 4L
Centrifuge (CT15RE, Hitachi Koki)
15,000 rpm, 21,500 g
Cooling
Centrifuge (H-11N, KOKUSAN)
High Pressure Reactor Vessel (BR-100, Berghof)
Oven (DK300, Yamato)
Oven (DO-300RPA, AS ONE)
Electrochemical Etching Setup ( )
透過型電子顕微鏡と走査型電子顕微鏡を日常的に使用しています。透過型電子顕微鏡観察のための超薄試料作製設備を備えています。
Transmission Electron Microsope (JEM-120i, JEOL)
4連サンプルホルダー
Scanning Electron Microsope (JSM-IT210, JEOL)
オスミウムコーティングシステム (Tennant20, メイワフォーシス)
Stand-alone
円二色性分散計 (J-1500, JASCO)
UV-NIR測定可能
窒素センサー
Inverted Microsope (Eclipse Ti2, Nikon)
透過暗視野を観測可能、フィルターキューブ２段
高速電動XY走査ステージ(Tholabs)
右ポート分光器(Acton), CCD (Liq. N2)
Confocal Laser Scanning Microscope (C2si+, Nikon)
蛍光ディテクタユニット（3ch） C2-DU3-NSL
スペクトルディテクタ C2-DUS-NSL
レーザーユニット LU-N4 405/488/561/640-NSL
Spectrofluorometer (Fluorolog-3, Horiba Jovin Yvon)
光源：Xeランプ＋ダブルモノクロメーター
可視：シングルモノクロメーター＋フォトマル、近赤外：シングルモノクロメーター＋InGaAsフォトダイオード
PL＋PLE自動測定
He-Cd laser
Spectrophotometer (SolidSpec 3700, Shimazu)
積分球による光検出
拡散反射測定
角度連続可変絶対反射測定，角度連続可変透過測定, 直接受光システム（溶液セル透過測定）
紫外～近赤外
Spectrophotometer (UV-3101PC, Shimazu)
190nm－3200nm
ダブルモノクロメーター透過特性，反射測定
偏光特性測定
斜入射特性測定
NanoPhotometer 微量分光光度計 (NP80, Implen)
200〜900nm
2種類の光路長（0.07mm、0.67mm）
測定時間 2.5~4.0秒
サンプル量(μL) 0.3〜2
FT-IR (Spectrum GX, Perkin Elmer)
遠赤外領域対応
4K冷凍機クライオスタット
RAS (Refractor2, HARRICK SCIENTIFIC PRODUCTS INC) [Manual: pdf, docx]
Flourescence Microsope (Eclipse Ti-U改, Nikon)
倒立生物顕微鏡と正立金属顕微鏡をドッキング
反射暗視野と透過暗視野を観測可能
平行光もしくは収束光を取出し
高速電動XY走査ステージ(Tholabs)
右ポート分光器(iHR320, HORIBA), CCD+IGA (Liq. N2) 左ポート分光器(iHR550, HORIBA)
trouble (June 2014)
Flourescence Microsope (Eclipse Ti-U改, Nikon)
上記と同じ改造型
Right port: Spectrometer(Kymera 328i, Andor), CCD+IGA (TE-cooled), Left port: APD detector (Single Photon Avalanche Diodes, MPD)
高速電動XY走査ステージ(Tholabs)
Flouresence Microscope ( ,Seishin)
iHR300分光器＋CCD＋InGaAsフォトダイオードアレー
低振動タイプ冷凍機型クライオスタットで１２Kまで冷却
ミツトヨ長作動距離近赤外対物レンズ
顕微ラマン分光、顕微PL分光、蛍光イメージ観察に使用
紫外から赤外領域、フェムト秒からCW、２Ｋ～室温で光学特性評価を行っています。各種のレーザー、分光器、検出器を組み合わせて独自のシステムを組み、材料の光学特性評価を行っています。光電流測定、電流注入発光、電界発光の測定を行っています。１０Ｔの超伝導マグネットを用いて強磁場下での光学測定が可能です。
Light Source
Supercontinuum Laser (SuperK EVO HP EU-04, NKT Photonics)
広帯域（400-2400 nm）白色レーザー
Acousto-Optic Tunable Filter (SuperK Select) nIR1 (640-1100 nm), IR(1100-2000 nm)
Tunable Filter (SuperK Varia) (400-840 nm)
狭帯域785 nm半導体レーザー (LM-785-PLR-95, ONDAX)
ラマン分光用狭帯域レーザー
IO-5-780-VLP (Thorlabs) フリースペース型アイソレータ、780 nm、最大ビームØ4.7 mm、最大入力1.7 Wと合わせて使用
fs Ti:Sapphire Laser (Tsunami, Spectra Physics)
フェムト秒レーザーと励起用グリーンCWレーザー（Millenia V）
CW Ti:Sapphire Laser( ,Spectra Physics)
700nm～1000nm波長連続可変
Q-switch Nd:YAG Laser( , ) + OPO
パルス幅５ナノ秒
基本波、2倍波、３倍波
OPOで青～赤外まで波長可変
Q-switch Nd:YAG Laser(Indy, Spectra Physics)
パルス幅５ナノ秒
基本波、2倍波、３倍波
Vacuum De355nm ultraviolet passively Q-switched pulse laser (MPL-F-355-10mW-1405046, CNI laser)position
27mW @ 5.33kHz
2.16mW @ 1kHz
Ar ion Laser (, Spectra Physics)
457.9,....,514.5nm
Ar ion Laser (, Spectra Physics)
457.9,....,514.5nm
He-Cd Laser (, Kinmon)
325nm
He-Cd Laser (, Kinmon)
325nm
Single mode ?
Semiconductor Lasers (Cube, Coherent)
405nm
405nm
670nm
785nm
[Cube_Trouble_1]
Semiconductor Lasers (others)
405nm (300mW固定）
445nm (1.5W固定）
635nm (固定)
980nm fiber laser
980nm laser (2W) [Manual]
Xe Lamp and Halogen Lamp Monochromatic Light Sources (, Horiba Jovin Yvon)
Xe lump (??W) or Halogen Lamp + double monochromator
Detector
CCD with Image Intensifier (, Roper Scientific) + 30cm Spectrometer (, Acton)
時間分解能：5nsec
CCD (Liq. N2 Cooling) (, Roper Scientific) + 30cm Spectrometer (, Acton)
CCD (Liq. N2 Cooling) (, Roper Scientific) + 30cm Spectrometer (, Acton)
サイドポートにフォトマル。時間相関単一光子計数法による時間分解測定
Trouble_201507
CCD (Liq. N2 Cooling) (, Roper Scientific) + 55cm Spectrometer (iHR550, Jovin Ybon)
InGaAs Diode Array (Liq. N2 Cooling) (, Roper Scientific) + 30cm Spectrometer (, Acton)
近赤外領域の高感度マルチチャネル測定
InSb Diode (Liq. N2 Cooling) (, Roper Scientific) + 15cm Monochrometer (, Acton)
1～５μｍ領域の発光測定
Near-IR PMT (5509-72, Hamamatsu Photonics) + 30cm Monochrometer (HR320, Jovin Ybon)
可視から近赤外領域の時間分解発光測定
CCD (Liq N2) ＋ InGaAs Diode Array (Liq. N2) + 30cm Spectrometer (iHR320, Jovin Ybon)
紫外から近赤外までの発光スペクトル測定
CCD (RT) ＋Monochrometer (, )
CCD付波長固定小型分光器
PMT＋30cm Monochrometer (270M, Spex)
Near IR PMT (5509-41, Hamatsu Photonics) ＋30cm Monochrometer (270M, Spex)
Cryostat
Liq. He Cryostat (Optistat, Oxford)
2K～室温
4K Cryostat (Cryomini, Iwatani)
4K Cryostat (, Janis)
空冷
12K Cryostat (Cryomini, Iwatani)
低振動型。顕微鏡と組み合わせて使用。
10K Cryostat (Cryomini, Iwatani)
Vacuum Probes + Optical Microscope 真空プローバー+光学顕微鏡システム
Ocean Optics FLAME-S分光器
Source Measure Unit (236, Keithley)
Dual-Channel Picoammeter/Voltage Source (6482, Keithley)
Function Generator (WF1947, NF)
Digital Oscilloscope (DS-5634, Iwatsu)
LCR meter (ZM2376, NF)
Potentiostat/Galvanostat (SP-300, Bio-Lobic)
動的光散乱・ゼータ電位測定装置 DLS and Zeta potential measurement system, Litesizer 700 (Anton Paar)
インクジェット卓上実験装置 Inkjet printing system, Labojet (LaboJet-600, MICROJET)
マスクレス露光装置 maskless exposure system, PALET (DDB-701-MS, ネオアーク)
Planetary ball mill (Pulverisette 7 Premium Line, Fritsch Japan)
Dynamic Light Scattering 動的光散乱法ナノ粒子径測定システム測定装置 (nanoSAQLA, 大塚電子)
Atomic Force Microscopy テーブルトップ原子間力顕微鏡 (TT-2, AFM Workshop)
Ultrasonic Homozinizer 超音波ホモジナイザー (SONICSTAR 85, VIOLAMO)
Optical Microscope ( )
Optical Microscope ( )
Optical Microscope ( )
Optical Microscope ( )
Prober ( )
Superconductive Magnet ( )
１０T（冷媒不要）
4K冷凍機クライオスタットで試料冷却